Stratégie de développement d'opérations de CVD-CAS des réacteurs annulaire et secteur / H. Vergnes in Récents progrés en génie des procédés, VOL 9 N° 39 ([21/09/1995])

Public ISBD [article]  in Récents progrés en génie des procédés > VOL 9 N° 39 [21/09/1995] . - p. 49 Titre : Stratégie de développement d'opérations de CVD-CAS des réacteurs annulaire et secteur Type de document : texte imprimé Auteurs : H. Vergnes, Auteur ; P. Duverneuil, Auteur Année de publication : 1995 Article en page(s) : p. 49 Langues : Français Résumé : Cetarticle présente un nouveau type d'appareil, appelé le réacteur annulaire, conçu afin de traiter un grand nombre de substrats avec une bonne uniformité de dépôt. Il déait également un modèle réduit de cetequipement, appelé le reacteur secteur. Celui-ci constime un appareil de laboratoire particulièrementutile pour la réalisation, à faible coûts de l'inévitable partie expérimentale du développement de toute nouvelle application. Des résuliats théoriques et expérimentux obtenus avec ces réacteurs sont décrits et comparés à ceux obtenus avec le réacteur le plus courament utilisé en microélectronique, le réacteur tubulaire à murs chauds. Ces résultais montrent aussi la concordanceentre le modéle réduitetson prototype, et l'émargence d'une nouvelle façon de procéder lors de lamise au point de procédure avec l'utilisation du modele réduit dans la phase de développament [article] Stratégie de développement d'opérations de CVD-CAS des réacteurs annulaire et secteur [texte imprimé] / H. Vergnes, Auteur ; P. Duverneuil, Auteur . - 1995 . - p. 49. Langues : Français in Récents progrés en génie des procédés > VOL 9 N° 39 [21/09/1995] . - p. 49 Résumé : Cetarticle présente un nouveau type d'appareil, appelé le réacteur annulaire, conçu afin de traiter un grand nombre de substrats avec une bonne uniformité de dépôt. Il déait également un modèle réduit de cetequipement, appelé le reacteur secteur. Celui-ci constime un appareil de laboratoire particulièrementutile pour la réalisation, à faible coûts de l'inévitable partie expérimentale du développement de toute nouvelle application. Des résuliats théoriques et expérimentux obtenus avec ces réacteurs sont décrits et comparés à ceux obtenus avec le réacteur le plus courament utilisé en microélectronique, le réacteur tubulaire à murs chauds. Ces résultais montrent aussi la concordanceentre le modéle réduitetson prototype, et l'émargence d'une nouvelle façon de procéder lors de lamise au point de procédure avec l'utilisation du modele réduit dans la phase de développament

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