Analyse et modélisation du dépôt LPCVD de nitrure de silicium à partir de silane et d'ammoniac / K. Yacoubi in Récents progrés en génie des procédés, VOL 9 N° 42 ([21/09/1995])

Public ISBD [article]  inRécents progrés en génie des procédés > VOL 9 N° 42 [21/09/1995] . - p. 01 Titre : Analyse et modélisation du dépôt LPCVD de nitrure de silicium à partir de silane et d'ammoniac Type de document : texte imprimé Auteurs : K. Yacoubi, Auteur ; C. Azzaro-pantel, Auteur Année de publication : 1995 Article en page(s) : p. 01 Langues : Français (fre) [article] Analyse et modélisation du dépôt LPCVD de nitrure de silicium à partir de silane et d'ammoniac [texte imprimé] / K. Yacoubi, Auteur ; C. Azzaro-pantel, Auteur . - 1995 . - p. 01. Langues : Français (fre) in Récents progrés en génie des procédés > VOL 9 N° 42 [21/09/1995] . - p. 01

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