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Document: texte imprimé

Technologies de base en lithographie / Stefan Landis

Public
ISBD

Titre :	Technologies de base en lithographie
Type de document :	texte imprimé
Auteurs :	Stefan Landis, Auteur
Editeur :	Paris : Hermès Science Publications
Année de publication :	2010
Collection :	Traité EGEM. Série électronique et micro-électronique
Importance :	VI-406-VIp
Présentation :	ill.
Format :	24cm
ISBN/ISSN/EAN :	978-2-7462-2445-2
Langues :	Français
Catégories :	GENIE ELECTRIQUE:621.1 Eléctronique
Mots-clés :	Rayonnement ultraviolet-applications industrielles photolithographie

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Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
621.1.94-1	621.1.94-1	Livre interne	BIBLIOTHEQUE CENTRALE	Genie électrique (bc)	Disponible

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